Station nettoyage chimique (BANC HUMIDE)

Nos stations de nettoyage chimique (« wet bench ») sont disponibles en modèles modulaires (conçus pour être déplacés aisément) et sur mesure (pour s’intégrer parfaitement à votre environnement de travail). De multiples types de bassins sont disponibles (décapant, température constante, température contrôlée, nettoyage par ultrasons…) de même que d’importants dispositifs de sécurité.

station nettoyage chimique (banc humide)

Fiche technique:

  • Banc humide laboratoire
  • Wet bench semi-conducteur
  • Station nettoyage chimique
  • Dimensions 48", 60", 72", 96" (largeur) x 48" (profondeur)
  • Construction pour utilisation avec des solvants ou des acides (polypropylène/FM4910 ou acier inoxydable)
  • Configuration de la station selon les besoins de votre procédé
  • Prise de liquides et de gaz avec valves
  • Système d'évacuation pour vapeurs nocives
  • Système de commande avec microprocesseur
  • Bassins disponibles en polypropylène ou en PVDF

Accessoires disponibles:

  • Bassin décapant
  • Bassin à température constante
  • Bassin à température contrôlée
  • Bassin pour nettoyage par ultrasons
  • Contrôle de procédé par automate programmable
  • Système de distribution de produits chimiques
  • Contrôleur de pH
  • « Dump rinsers »
  • Bassins avec cascades
  • Robinets en col de cygne
  • Plate-forme perforée
  • Nettoyeur à bouteilles
  • Bassin à gravure
  • Surface de travail adaptée
  • Construction en acier inoxydable, PVDF, Teflon, etc..

Options:

  • Hotte à flux laminaire avec filtre Hepa motorisé
  • Écran protecteur en Lexan
  • Dimensions et conception sur mesure selon vos besoins